КАРТОЧКА ПРОЕКТА ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ И ПОИСКОВЫХ НАУЧНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ,
ПОДДЕРЖАННОГО РОССИЙСКИМ НАУЧНЫМ ФОНДОМ

Информация подготовлена на основании данных из Информационно-аналитической системы РНФ, содержательная часть представлена в авторской редакции. Все права принадлежат авторам, использование или перепечатка материалов допустима только с предварительного согласия авторов.

 

ОБЩИЕ СВЕДЕНИЯ


Номер 22-19-00171

НазваниеМногоуровневые мемристоры в матричном кроссбар-исполнении на базе структур оксид-магнитный нанокомпозит для нейроморфных приложений

РуководительРыльков Владимир Васильевич, Доктор физико-математических наук

Организация финансирования, регион Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", г Москва

Период выполнения при поддержке РНФ 2022 г. - 2024 г. 

Конкурс№68 - Конкурс 2022 года «Проведение фундаментальных научных исследований и поисковых научных исследований отдельными научными группами».

Область знания, основной код классификатора 09 - Инженерные науки, 09-701 - Электронная элементная база информационных систем

Ключевые словарезистивное переключение, магнитные нанокомпозиты, эффекты перколяции, нуклеация диспергированных атомов, слоистые диэлектрические прослойки, мемристор, мемристивные кроссбар-матрицы, синаптическая пластичность, спайковые нейроморфные вычислительные системы, обучение по Хеббу и с подкреплением

Код ГРНТИ29.19.22


 

ИНФОРМАЦИЯ ИЗ ЗАЯВКИ


Аннотация
В настоящее время наблюдается повышенный интерес к разработке нейроморфных вычислительных систем (НВС) на базе мемристоров благодаря их высокой производительности при малом энергопотреблении для решения задач искусственного интеллекта (распознавание образов и речи, классификация данных, прогнозирование и т.д.). Нейроны в аппаратных НВС обычно моделируются с использованием КМОП микросхем, тогда как связи-веса между нейронами (синапсы), которых должно быть на порядки больше нейронов (в человеческом мозгу в ~10^4 раз), имитируются «пластичными» (многоуровневыми) мемристорами; в основном, структурами металл-оксид-металл (МОМ)), способными под действием электрических импульсов изменять и сохранять свое сопротивление в некотором окне между высокоомным (Roff) и низкоомным (Ron) резистивными состояниями (РС). Особое место в разработке аппаратных НВС занимают импульсные нейронные сети (ИНС), которые могут позволить значительно снизить энергопотребление (приблизив его к биологическому прототипу); увеличить производительность нейровычислений и реализовать обучение НВС как с учителем, так и без него, на основе биоподобных правил изменения мемристивных весов типа STDP (spike timing dependent plasticity). Однако, на пути создания мемристивных ИНС возникает ряд принципиальных физических и технологических до сих пор нерешенных проблем. 1) Мемристоры должны обладать многоуровневым характером резистивного переключения (РП) (информационной емкостью не менее 4-5 бит/элемент) и возможностью изменения РС по STDP правилу, играющему ключевую роль в реализации ИНС. При этом важно, чтобы мемристоры массива (кроссбар-матрицы) обладали высоким уровнем стабильности РП от цикла к циклу и воспроизводимостью РП от элемента к элементу. Для реализации ИНС необходимы также достаточно высокая устойчивость мемристивных элементов к циклическим РП (>10^5 циклов) при Roff/Ron > 10 и по возможности длительное время хранения заданного РС (не менее суток). До сих пор нет готовых рецептов, как можно достичь в одном элементе перечисленных выше оптимальных мемристивных характеристик. 2) Важная и нерешенная на настоящий момент проблема связана также с созданием больших массивов (>10^4 элементов) бесформовочных низковольтных мемристоров с использованием технологии, которая могла бы быть интегрирована с технологией изготовления современных КМОП микросхем, работающих при напряжении <3 В. (При формовке первое РП мемристора из исходного состояния в низкоомное происходит при напряжении, в несколько раз превышающем напряжение последующих обратимых переключений). 3) Для исследования мемристивных характеристик обычно используются МОМ структуры конденсаторного типа с общим нижним электродом и набором верхних, отделенных от нижнего пленкой активного слоя (оксида), когда краевые эффекты не важны. С другой стороны, мемристивные элементы в матричном кроссбар-исполнении требуют для стабильной работы наличия конформного диэлектрического покрытия с окнами, обеспечивающего изоляцию между верхней и нижней шинами и подавление краевых эффектов. Температура осаждения таких покрытий достигает 300-400 С, что может приводить к заметным изменениям свойств активной области. Поэтому мемристивные параметры конденсаторных и маричных МОМ элементов могут существенно отличаться. На данный момент имеется немало примеров, когда методами инженерии дефектности и дизайна структур удается существенно улучшить те или иные их мемристивные характеристики [1]. Однако, пока не существует универсального метода для достижения одновременно и устойчивых и многоуровневых РП, а некоторые впечатляющие подходы в этом направлении (см., например, ссылку 25 в [1]) весьма трудоемки в реализации и носят пока еще поисковый характер. Предлагаемый Проект базируется на наших оригинальных результатах, полученных в рамках проекта РНФ № 16-19-10233-П, по разработке с использованием метода ионно-лучевого распыления бесформовочных мемристорных структур типа металл-нанокомпозит-металл (М/НК/М) на базе НК типа (CoFeB)х(LiNbO3)100-х, обладающих количеством устойчивых РП более 10^6 при отношении Roff/Ron ~100, низким уровнем шумов и высокой пластичностью, позволяющей достичь точности задания РС в окне (Ron, Roff) не хуже 0.5 %. Показано [2], что своеобразие мемристивных свойств структур М/НК/М связано как с самоорганизованным формированием высокоомной LiNbO3 прослойки у нижнего их электрода, так и с мультифиламентным характером РП, обусловленным большим содержанием в изолирующей матрице диспергированных неравновесных магнитных ионов Fe2+ и Co2+ (до ~10^22 cм^-3) и их нуклеацией при первых РП. Недостатком М/НК/М структур, разработанных в рамках РНФ № 16-19-10233-П, является довольно высокое их напряжение РП от 3 до 6 В, обусловленное в первую очередь использованием «толстых» слоев НК (1.5-2.5 мкм), а кроме того - разброс их характеристик из-за недостаточной воспроизводимости интерфейсной LiNbO3 прослойки, возникающей самоорганизованным образом на начальном этапе роста НК. Была продемонстрирована возможность использования таких структур для создания пробных кроссбар-матриц (3х3), но без изолирующих конформных слоев, необходимых для формирования плотных массивов мемристивных элементов. Принципиальное отличие планируемых в данном проекте исследований заключается в том, что все эксперименты будут выполнены на одиночных или матричных (не менее 4х4) массивах мемристоров с изолирующими конформными слоями, полученными при температурах ~300 С, когда оказывается существенной нуклеация диспергированных атомов и частичная кристаллизация аморфного LiNbO3. Будут использоваться структуры М/НК/Д/М со встроенной диэлектрической (Д) прослойкой толщиной ~10 нм. Важное внимание в проекте будет уделено разработке мемристивных М/НК/Д2/Д1/М структур с двухслойной диэлектрической прослойкой с сильно отличающимися в слоях подвижностями вакансий кислорода m (m2 << m1), что как показано нами в ходе предварительных исследований (см. форму 4 и прикрепленный файл), с одной стороны, существенно увеличивает время хранения РС, а с другой - сохраняет многоуровневый характер РП. Важно также, что структуры будут создаваться не только ионно-лучевым распылением, но и с использованием метода магнетронного осаждения, который наиболее интегрирован в микроэлектронные технологии и в радиочастотном режиме позволяет также получать НК материалы. Таким образом, в свете изложенных выше проблем и тенденций в развитии ИНС, а также полученных результатов возникают следующие крупные взаимосвязанные задачи, которые планируется решить при выполнении проекта. 1.1. Разработка с использованием методов ионно-лучевого и магнетронного распылений двух типов многоуровневых (не менее 16 РС) структур М/НК1/Д1/М и М/НК2/Д2/Д1/М в матричном (4х4) кроссбар-исполнении с конформными изолирующими слоями и напряжениями РП не выше 3 В, в которых НК1 = CoFeВ-LiNbO3 и НК2 = CoFeВ-SiO2 толщиной ~100 нм будут отделены от нижнего электрода структуры тонкой однослойной Д1= LiNbO3 (~10 нм) или двухслойной диэлектрической прослойкой Д2/Д1 = SiO2/LiNbO3 (~3/10 нм) с сильно отличающимися подвижностями вакансий кислорода m (m2 << m1); 1.2. Разработка с использованием методов ионно-лучевого и магнетронного распылений одиночных кроссбар-структур по п. 1.1 с разной площадью элементов от 10х10 до 500х500 мкм^2. 2. Комплексные исследования структурных, электрофизических и магнитных свойств образцов, полученных по пп. 1.1 и 1.2, с целью выявления оптимальных режимов их получения. Будут изучены: размерные эффекты и возможность масштабирования образцов, эффекты перколяции и нуклеации при РП и температурном воздействии, кинетика РП; выявлены оптимальные параметры синтеза структур для наблюдения устойчивых РП: содержание металлической фазы, температура осаждения конформных слоев, толщины слоев активных областей; 3. С использованием результатов по п. 2 разработка макетов оптимизированных мемристивных НК кроссбар-матриц с площадью элементов (20х20-50х50) мкм^2 и их числом не менее 16х16, пригодных для реализации простых импульсных НВС; 4. Апробация созданных макетов НК кроссбар-матриц на примере реализации НВС типа спайкового распознавателя простых графических образов, НВС с обучением по Хеббу для распознавания пространственно-временных образов и т.п. Задачи, на решение которых нацелен проект, основаны на недавних наших достижениях в части создания мемристивных НК структур, изучения механизма РП и возможности их использования для реализации простейших НВС; носят, безусловно, фундаментальный, междисциплинарный и важный прикладной характер. [1] W. Banerjee et al., Engineering of defects in resistive random access memory devices. J. Appl. Phys. 127, 051101 (2020). [2] M.N. Martyshov, A.V. Emelyanov, V.A. Demin, K.E. Nikiruy, A.A. Minnekhanov, S.N. Nikolaev, A.N. Taldenkov, A.V. Ovcharov, M.Yu. Presnyakov, A.V. Sitnikov, A.L. Vasiliev, P.A. Forsh, A.B. Granovskiy, P.K. Kashkarov, M.V. Kovalchuk, V.V. Rylkov. Multifilamentary Character of Anticorrelated Capacitive and Resistive Switching in Memristive Structures Based on (Co−Fe−B)x(LiNbO3)100−x Nanocomposite. Phys. Rev. Applied 14, 034016 (2020).

Ожидаемые результаты
1) Будут разработаны с использованием методов ионно-лучевого и магнетронного распылений два типа многоуровневых (не менее 16 РС) структур М/НК1/Д1/М и М/НК2/Д2/Д1/М в матричном (4х4) кроссбар-исполнении с конформными изолирующими слоями и напряжениями РП не выше 3 В. В качестве нанокомпозитов планируется использовать слои НК1 = CoFeВ-LiNbO3 и НК2 = CoFeВ-SiO2 толщиной ~100 нм, которые будут отделены от нижнего электрода структуры тонкой однослойной Д1= LiNbO3 (~10 нм) или двухслойной диэлектрической прослойкой Д2/Д1 = SiO2/LiNbO3 (~5/10 нм) с сильно отличающимися подвижностями вакансий кислорода m (m2 << m1); 2) Будут разработаны с использованием методов ионно-лучевого и магнетронного распылений одиночные кроссбар-структуры по п. 1 с разной площадью элементов от 10х10 до 500х500 мкм^2. 3) Будут выполнены комплексные исследования структурных, электрофизических и магнитных свойств образцов, полученных по пп. 1 и 2, с целью выявления оптимальных режимов их получения. Будут изучены: размерные эффекты и возможность масштабирования образцов, эффекты перколяции и нуклеации гранул при РП и температурном воздействии, кинетика РП. Будут выявлены оптимальные параметры синтеза структур для наблюдения устойчивых РП: содержание металлической фазы, температура осаждения конформных изолирующих слоев, толщины слоев активных областей; 4) С использованием результатов по п. 3 будут разработаны макеты оптимизированных мемристивных НК кроссбар-матриц с числом элементов не менее 16х16, пригодные для реализации простых импульсных НВС; 5) Будет выполнена апробация созданных макетов НК кроссбар-матриц на примере реализации НВС типа спайкового распознавателя простых графических образов, НВС с обучением по Хеббу для распознавания пространственно-временных образов и т.п. Кроссбар-матрицы мемристивных элементов с низкими рабочими напряжениями играют в настоящее время ключевую роль в разработках различного типа нейроморфных вычислительных систем («умных» устройств), предназначенных для решения задач искусственного интелекта: распознавание образов и естественного языка, принятие решений, обобщение, прогнозирование и др. Поэтому не вызывает сомнения, что результаты Проекта могут найти широкое применение в различных сферах деятельности: от бытовых применений до использования в наукоемких производствах товаров и услуг, криптографии, а также в обеспечении обороноспособности России.


 

ОТЧЁТНЫЕ МАТЕРИАЛЫ


Аннотация результатов, полученных в 2022 году
Проект направлен на разработку многоуровневых бесформовочных низковольтных мемристоров в матричном исполнении, которые могут эффективно использоваться для создания плотных массивов мемристивных синапсов и их интеграции с КМОП схемами при построении нейроморных вычислительных систем (НВС). В частности, импульсных (спайковых) нейронных сетей (ИНС), способных реализовать обучение НВС как с учителем, так и без него, на основе биоподобных правил изменения мемристивных весов типа STDP (spike-timing dependent plasticity), приблизив энергопотребление к биологическому прототипу при решении задач искусственного интеллекта (распознавание образов и речи, классификация данных, прогнозирование и т.д.). В свете существующих тенденций в развитии НВС и ранее полученных результатов в проекте было сформулировано четыре крупных и взаимосвязанных направления работ (аннотацию заявки), по которым в 2022 г. проводились интенсивные изыскания. Основные результаты описаны ниже. 1) С использованием плазмо-химического осаждения и ионно-лучевого распыления на SiO2/Si подложках диаметром 51 мм сформированы различные мемристивные матрицы в кроссбар-геометрии на базе структур типа М/НК/Д/М (НК=CoFeВ-LiNbO3, Д= LiNbO3): 10 шт. с числом элементов 16х16 площадью S = 20х20 мкм2, 5 шт. с числом элементов 4х4 (S = 50х50 мкм2) и 6 шт. единичных с различной площадью от 10х10 до 500х500 мкм2. Применение изолирующих конформных слоев Si3N4, полученных методом плазмохимического осаждения, позволило практически полностью подавить паразитные краевые эффекты (токи утечки). При этом отношение сопротивлений мемристивного элемента в высокомном состоянии (Roff) к низкоомному (Ron) составляет около 10, а напряжения переключения не превышает 3В, что делает разработанные мемристивные матрицы перспективными для интеграции с современными КМОП устройствами, работающими при напряжениях 3 В. Элементы кроссбар-матрицы демонстрируют многоуровневый характер резистивных переключений (не менее 9 состояний) при их устойчивости не менее 10^5, а также возможность изменения проводимости по локальным биоподобным правилам типа STDP. Разработана гибридная сверточная нейронная сеть (СНС), состоящая из аппаратного экстрактора признаков на основе созданных матриц нанокомпозитных мемристоров в кроссбар-архитектуре с одним/двумя фиксированными фильтрами и программного классификатора. При 2-х фильтрах такая СНС смогла классифицировать бинаризованный набор данных Fashion-MNIST (изображения предметов одежды) с точностью ~ 84%, которая сравнима с полностью программными и полностью аппаратными (мемристорными) системами. При этом гибридная СНС устойчива к вариациям характеристик мемристоров, а количество обучаемых параметров для гибридной СНС значительно меньше [1]. 2) Выполнены сравнительные исследования эффекта резистивного переключения (РП) одиночных структур металл/нанокомпозит/металл (М/НК/М) и металл/нанокомпозит/LiNbO3/металл (М/НК/LNO/М) на основе НК (Co40Fe40B20)х(LiNbO3)100-х (х = 6-20 %) с наногранулами CoFe размером 2-4 нм, а также структур без слоя НК (М/LNO/М). Обнаружено, что ключевую роль в эффекте РП играет перколяционная проводимость НК и наличие тонкой прослойки LNO. При приближении содержания металла к порогу перколяции структур М/НК/М (xp = 10 ат.%), в структурах со встроенным слоем LNO образуются низкоомные перколяционные наноканалы из гранул, обеспечивающие их стабильные РП, которые, однако, заметно подавляются при уменьшении х относительно xp на величину dх = 1-2 ат.%. Установлено также, что зависимость сопротивления структур в низкомном состоянии Ron зависит от их площади S необычным степенным образом, Ron ~ 1/(S^0.52), что вероятно связано с особенностями проявлением эффектов перколяции в данных тонкопленочных системах [2]. 3) Развита компактная поведенческая модель нанокомпозитного (НК) мемристора на базе НК М/НК/М (Co40Fe40B20)x(LiNbO3)100–x, которая количественно описывает динамику вольт-амперных переключений лабораторных образцов, а также реализует механизмы конечного времени хранения резистивных состояний, учитывает разброс по напряжениям переключения от цикла к циклу и от устройства к устройству. Модель может быть использована при разработке нейроморфных систем с мемристорными синаптическими связями [3]. Основные результаты отражены в статьях: [1] Matsukatova A.N., Ilyasov A.I., Nikiruy K.E., Kukueva E.V., Vasiliev A.L., Goncharov B.V., Sitnikov A.V., Zanaveskin M.L., Bugaev A.S., Demin V.A., Rylkov V.V., Emelyanov A.V. Convolutional neural network based on crossbar arrays of (Co-Fe-B)x(LiNbO3)100−x nanocomposite memristors. Nanomaterials, Vol. 12, 3455-3464 (2022). [2] К.Э. Никируй, А.В. Емельянов, А.Н. Мацукатова, Е.В. Кукуева, А.Л. Васильев, А.В. Ситников, В.А.Демин, В.В. Рыльков. Влияние эффекта перколяции на резистивные переключения конденсаторных структур на базе нанокомпозита CoFeB-LiNbO3. ФТТ, том 64, вып. 11, 1690-1694 (2022). [3] И.А. Суражевский, В.В. Рыльков, В.А. Демин. Компактная поведенческая модель нанокомпозитного мемристора. Радиотехника и электроника (принята в печать).

 

Публикации

1. Мацукатова А.Н., Ильясов А.И., Никируй К.Э., Кукуева Е.В., Васильев А.Л., Гончаров Б.В., Ситников А.В., Занавескин М.Л., Бугаев А.С., Демин В.А., Рыльков В.В., Емельянов А.В. Convolutional neural network based on crossbar arrays of (Co-Fe-B)x(LiNbO3)100−x nanocomposite memristors Nanomaterials, Vol. 12, № 19, pp. 3455-3464 (год публикации - 2022) https://doi.org/10.3390/nano12193455

2. Никируй К.Э., Емельянов А.В., Мацукатова А.Н., Кукуева Е.В., Васильев А.Л., Ситников А.В., Демин В.А., Рыльков В.В. Влияние эффекта перколяции на резистивные переключения конденсаторных структур на базе нанокомпозита CoFeB-LiNbO3 Физика твердого тела, том 64, вып. 11, с. 1690-1694 (год публикации - 2022) https://doi.org/10.21883/FTT.2022.11.53321.410

3. Суражевский И.А., Рыльков В.В., Демин В.А. Компактная поведенческая модель нанокомпозитного мемристора Радиотехника и электроника, - (год публикации - 2023)

4. Николаев С.Н., Черноглазов К.Ю., Емельянов А.В., Пацаев Т.Д., Ганьшина Е.А., Васильев А.Л., Ситников А.В., Демин В.А., Грановский А.Б., Рыльков В.В. Аномальное поведение магнетосопротивления в нанокомпозитных пленочных структурах (CoFeB)x(LiNbO3)100−x/Si ниже порога перколяции Труды XXVII международного симпозиума "Нанофизика и наноэлектроника", - (год публикации - 2023)


Аннотация результатов, полученных в 2023 году
Проект направлен на разработку многоуровневых бесформовочных низковольтных мемристоров в матричном исполнении, которые могут эффективно использоваться для создания плотных массивов мемристивных синапсов и их интеграции с КМОП схемами при построении нейроморных вычислительных систем (НВС). В частности, импульсных (спайковых) нейронных сетей (ИНС), способных реализовать обучение НВС как с учителем, так и без него, на основе биоподобных правил изменения мемристивных весов типа STDP (spike-timing dependent plasticity), приблизив энергопотребление к биологическому прототипу при решении задач искусственного интеллекта (распознавание образов и речи, классификация данных, прогнозирование и т.д.). В свете существующих тенденций в развитии НВС и ранее полученных результатов в проекте было сформулировано четыре крупных и взаимосвязанных направления работ (см. форму 1 заявки), по которым в 2023 г. проводились интенсивные изыскания. Основные результаты описаны ниже. 1) Выполнены работы по оптимизации и совершенствованию технологического процесса создания мемристорных кроссбар-матриц 16x16 и отдельных элементов на базе структур металл/нанокомпозит/диэлектрик/металл (М/НК/Д/М; НК=CoFeВ-LiNbO3, Д= LiNbO3) с целью увеличения их сопротивления в низкоомном ON состоянии при сохранении многоуровневого характера резистивных переключений (РП). Важным новшеством в модифицированной технологии являлся способ формирования активного мемристивного слоя с применением взрывной (lift-off) фотолитографии, т.е. без использования теневых масок, когда трудно достичь высокого позиционирования при осаждении НК слоев. Кроме того, при формировании нижних шин-электродов кроссбар-структур были использованы два метода. Первый - обычный с выступающими нижними шинами, а второй способ с шинами, заглубленными в диэлектрический слой, позволяющий более эффективно подавлять краевые эффекты при использовании относительно толстых шин. Проведены предварительные исследования вольт-амперных характеристик (ВАХ) элементов кроссбар-матриц, полученных с использованием взрывной фотолитографии, с выступающими и заглубленными шинами. Показано, что в модифицированном технологическом процессе, основанном на использовании фотолитографических операций, достигаются необходимые их сопротивления в ON состоянии (10-100 кОм) более чем на два порядка превышающие сопротивления металлических шин (30-40 Ом). 2) Продолжались работы по отработке технологии создания планарных пленочных нанокомпозитных образцов на основе НК=(CoFeВ)х(LiNbO3)100-х с использованием взрывной (lift-off) фотолитографии и изучению их транспортных свойств, в основном ниже порога перколяции (x = 40-48 ат.%). В диапазоне температур 3-250 К в полях до 14 Тл была обнаружена сильно немонотонная температурная зависимость магнетосопротивления, которое имеет минимум при 40 K, резко возрастая при понижении температуры. Обнаруженные особенности объясняются разрушением суперферромагнитного упорядочения, процессами упругого со-туннелирования через цепочки гранул и эффектами квантовой интерференции в условиях насыщения намагниченности. Параллельно проводились магнето-оптические исследования пленочных НК (CoFeB)x(LiNbO3)100-x и (CoFeZr)x(Al2O3)100-x в геометрии экваториального (поперечного) эффекта Керра (ЭЭК) в спектральном диапазоне 0.5-4.0 эВ и магнитных полях до 3кЭ. В данных НК были обнаружены переходы от суперпарамагнитного состояния к суперферромагнитному и ферромагнитному при повышении концентрации магнитной компоненты. Эти и другие особенности были описаны в обзоре, посвященном анализу многочисленных факторов, влияющих на величину и спектральную зависимость магнитооптического сигнала экваториального эффекта Керра нанокомпозитов. 3) Разработаны новая топология массивов мемристорных структур разной площади и дизайн их размещения на пластинах SiO2/Si, эффективные как для изучения закона масштабирования, так и для понимания роли токов ветвления (snack current) и краевых токов утечки в функционировании матричных кроссбар-элементов на базе структур М/НК/Д/М. 4) В ходе выполнения проекта реализована простая аппаратная нейроморфная вычислительная сеть (НВС) на основе восьми кроссбар-мемристоров матрицы 16х16, способная классифицировать два вектора: «0101» и «1010». Успешная работа НВС продемонстрирована как для идеальных, так и для «зашумленных» входов, для которых был инвертирован один бит вектора. Найденные мемристивные характеристики были использованы для моделирования сети на основе адаптированной архитектуры MLP-Mixer (миксер многослойных перцептронов), которая продемонстрировала точность классификации (94,7 ± 0,3) % на наборе данных рукописных цифр MNIST. Полученные результаты являются первыми на пути к реализации мемристивной НВС с перспективной архитектурой MLP-Mixer. 5) Разработана модель многофиламентного резистивного переключения (РП) на примере мемристора на основе НК CoFeB-LiNbO3 с использованием явного распределения филаментов по значениям проводимости в приповерхностном тонком аморфном слое LiNbO3 с прыжковым характером транспорта в примесной зоне. Модель хорошо аппроксимирует экспериментальные данные по синаптической пластичности НК мемристора, в частности, по изменению его проводимости по правилу STDP (spike-timing dependent plasticity -пластичность, зависящая от времени прихода импульсов). Полученные результаты открывают перспективы микроскопического изучения РП в МДМ структурах с применением модельных распределений филаментов и обосновывают возможность успешного применения рассматриваемых НК мемристоров в качестве синапсов нейроморфных сетей. 6) Разработана поведенческая модель функционирования мемристорной структуры, характер изменения проводимости которой приближен к реальным образцам мемристора на основе НК (CoFeB)х(LiNbO3)100−x. Показано, что модель количественно описывает динамику вольт-амперных переключений лабораторных образцов, а также реализует механизмы конечного времени хранения резистивных состояний, разбросов по напряжениям переключения от цикла к циклу и от устройства к устройству. Проведены сравнительные запуски импульсного нейросетевого алгоритма 4-к-1 (4 пресинаптических нейрона, один постсинаптический) с мемристивными синаптическими связями как на основе разработанной модели, так и на основе модели VTEAM. Показано минимальное различие в работе алгоритмов. 7) Разработан технологический маршрут интеграции массива нанокомпозитных мемристоров с КМОП транзисторным управляющим слоем для создания микроустройства типа BEOL/FEOL с использованием, имеющейся в России технологической базы. 8) С использованием технологий магнетронного осаждения и термического напыления синтезированы мемристивные структуры Сr/Cu-Ag/a-Si/естественный оксид SiOx/p++-Si, обладающие повышенной устойчивостью к резистивным переключениям (более >104 циклов записи/стирания), что на несколько порядков выше, чем сообщалось ранее (H. Yeon et al., Nat. Nanotechnol. 15, 574 (2020)). При этом структуры демонстрируют многоуровневый характер переключений при токах потребления до 1 мкA и обладают временем хранения резистивных состояний не менее 10 мин. ПУБЛИКАЦИИ ПО ПРОЕКТУ По результатам второго года выполнения проекта опубликовано 5 статей в журналах, индексируемых в WoS, одна из которых в журнале Письма в ЖЭТФ из Q2. Одна статья принята недавно к печати в журнале Nanoscale Horizons из Q1.

 

Публикации

1. Ганьшина E.A., Гаршин В.В., Перова Н.Н., Припеченков И.М., Юрасов А.Н., Яшин М.М., Рыльков В.В., Грановский А.Б. Магнитооптическая Керр-спектроскопия нанокомпозитов Журнал Экспериментальной и Теоретической Физики, Т. 164, вып.4, стр. 662-672 (год публикации - 2023) https://doi.org/10.31857/S0044451023100188

2. Дёмин В.А., Ильясов А.И., Рыльков В.В., Кашкаров П.К., Ковальчук М.В. Model of Multifilamentary Resistive Switching for a Memristor with Hopping Conductivity Nanobiotechnology Reports, Vol. 18, No. 2, pp. 305–317 (год публикации - 2023) https://doi.org/10.1134/S2635167623700180

3. Ичёткин Д.В., Ширяев М.Е., Новиков Д.В., Лебедев Е.A., Рыльков В.В. Многоуровневые мемристорные структуры на основе a-Si с повышенной устойчивостью резистивного переключения и малыми токами потребления Письма в журнал технической физики, Т. 49, вып. 20, с. 39-42 (год публикации - 2023) https://doi.org/10.21883/PJTF.2023.20.56346.19672

4. Николаев С.Н., Черноглазов К.Ю., Емельянов А.В., Ситников А.В., Талденков А.Н., Пацаев Т.Д., Васильев А.Л., Ганьшина Е.А., Демин В.А., Аверкиев Н.С., Грановский А.Б., Рыльков В.В. Anomalous Behavior of the Tunneling Magnetoresistance in (CoFeB)x(LiNbO3)100−x/Si Nanocomposite Film Structures Below the Percolation Threshold: Manifestations of the Cotunneling and Exchange Effects JETP Letters, Vol. 118, No. 1, pp. 58–66 (год публикации - 2023) https://doi.org/10.1134/S0021364023601550

5. Суражевский И.А., Рыльков В.В., Демин В.А. Компактная поведенческая модель нанокомпозитного мемристора Радиотехника и электроника, Т. 68, № 11, стр. 1140–1146 (год публикации - 2023) https://doi.org/10.31857/S0033849423100170

6. Николаев С.Н., Черноглазов К.Ю., Емельянов А.В., Пацаев Т.Д., Ганьшина Е.А., Васильев А.Л., Ситников А.В., Демин В.А., Аверкиев Н.С., Грановский А.Б., Рыльков В.В. Аномальное поведение магнетосопротивления в нанокомпозитных пленочных структурах (CoFeB)x(LiNbO3)100−x/Si ниже порога перколяции Труды XXVII международного симпозиума "Нанофизика и наноэлектроника", том 1, с. 283-284 (год публикации - 2023)

7. Николаев С.Н., Черноглазов К.Ю., Емельянов А.В., Ситников А.В., Талденков А.Н., Пацаев Т.Д., Васильев А.Л., Ганьшина Е.А., Демин В.А., Аверкиев Н.С., Грановский А.Б., Рыльков В.В. Tunneling magnetoresistance in (CoFeB)x(LiNbO3)100−x/Si nanocomposite structures below percolation threshold: manifestations of co-tunneling and exchange effects Book of Abstracts of Samarkand International Symposium on Magnetism (SISM-2023), p. 144 (год публикации - 2023)